傳統的超精密加工工藝(例如研磨,拋光和珩磨)通常用于工業,但是存在一些局限性,例如次表面損壞,殘余應力以及難以精加工復雜和自由曲面。但是,為了在難加工的材料(如陶瓷,玻璃,硅晶片,金剛石晶片,藍寶石晶片等)上實現無損傷的納米級或埃級表面精加工,并以高精度精加工復雜和自由形式的表面,非常需要先進的超精加工工藝。討論了各種先進的精加工工藝,包括磨料流磨(AFF),化學機械拋光(CMP),彈性發射加工(EEM),磁磨光加工(MAF),磁流變精加工(MRF)和等離子輔助拋光(PAP)工藝。詳細。討論了有關其工作原理,設置細節,過程參數效果,優點及其應用的高級精加工過程。在進行磨料流拋光(AFF)和化學機械拋光(CMP)時,在拋光操作過程中沒有外部力的控制,但是可以通過控制拋光工藝參數來生成納米級的表面拋光。在磁性磨料精加工(MAF)和磁流變精加工(MRF)期間,可以通過外部施加的磁場來適當地控制力,因此內部和外部平面以及曲面的納米級精加工相對較快地進行。為了在光學和半導體材料上產生原子平面且無損傷的表面,有效利用了彈性發射加工(EEM)和等離子輔助拋光(PAP)工藝。重點介紹了基本工作原理,設置細節,工藝參數的影響,優缺點和挑戰以及所有這些高級精加工工藝的應用。它還強調了那些精加工工藝的最新進展。了解更多精密加工訂單件加工圈官網